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RESISTENCIA CRÍTICA
10August

RESISTENCIA CRÍTICA

SANTIAGO DE CHILE: Las obras y artistas convocados para la 9ª Bienal de Video y Artes Mediales (del 20 de agosto al 13 de septiembre en el Museo de Arte Contemporáneo), responden a la inquietud de revisar el concepto de resistencia.

Ese propósito se sustenta en una estrategia metodológica, propuesta estética y opción ideológico-política, a fin de abrir un campo de múltiples matices entre invitados artistas, teóricos y público general, según conceptos del consejo curatorial de este evento coordinado por un equipo multidisciplinario que, desde 1993, dirige el artista y académico Néstor Olhagaray.

“La BVAM no pretende ilustrar avances tecnológicos”, expresa Olhagaray. “Éstos son trabajos de artistas, donde hay una labor de decantación, un trabajo crítico con el lenguaje del arte, con el espacio en que se inserta y los contextos. La tecnología asume una noción de lo poético, donde el autor se instala como un agente socializador de problemas de cultura contemporánea”.

Abierta a todo público, la bienal integra exposiciones, talleres de aprendizaje, sesiones prácticas y teóricas, y un coloquio internacional.

En la nómina de invitados, aparecen los chilenos Alejandra Pérez, Roberto Larraguibel, Andrea Wolf, el colectivo LaMe, Espacio G, Yto Aranda, Klaudia Kemper, Viviana Bravo y Mario Z; del extranjero, se suman, entre otros, Fernando Rabelo (Brasil), Fabrice Cavaillé (Francia), Emiliano Causa (Argentina), Santiago Ortiz (Colombia), Nerea Calvillo (España), Juan Carlos de la Parra (México) y Brian Mackern (Uruguay).

Fuente: Comunicado de prensa enviado por Carolina Lara B.
Más información: info@plataformaculturadigital.cl / http://www.bvam.cl/
Contacto prensa: Carolina Lara B. / lara.prensa@gmail.com